세미에이아이, AI 활용 반도체 1㎚ 오버레이 예측 기술 공개

지태권 세미아이 대표가 11일 ‘세미콘 코리아 2026’ 행사에서 서브 1나노미터 오버레이를 예측하는 AI 기술을 공개했다. 사진 제공=세미에이아이 세미에이아이는 국제반도체장비재료협회(SEMI)가 개최한 ‘세미콘 코리아 2026’에서 반도체 공정상 서브 1나노미터(㎚) 오버레이를 예측하는 인공지능(AI) 기술을 공개했다고 12일 밝혔다. 세미에이아이는 원자 단위 정밀도가 요구되는 첨단 공정 환경에서 발생하는 공정 노이즈 확대 및 데이터 부족 문제 등을 해결하기 위해 물리 기반 합성 데이터를 활용하는 ‘버추얼 팹’ 프레임 워크를 제시했다. 버추얼 팹 프레임워크는 실제 공정 데이터를 대규모 합성 데이터로 보강하고 극단적인 공정 변동 상황까지 학습시켜 모델의 예측 안정성을 개선한다. 또한 스캐너 로그 데이터와 공정 도메인 지식을 결합한 ‘도메인 주도 멀티모달 융합 모델’을 통해 기존 선형회귀와 XG부스트 대비 예측 성능을 개선했다. 오버레이를 예측하는 AI 기술을 적용한 결과 평균 오차(RMSE)가 0.9㎚ 수준에서 0.3㎚ 수준으로 감소했다. 상관계수(R²)는 0.4에서 0.9로 향상됐다. 이는 서브 1㎚ 공정 요구 조건에 근접하는 정밀도를 확보했음을 뜻한다. 지태권 세미에이아이 대표는 “반도체 미세화가 가속화됨에 따라 반도체 공정 관리 패러다임이 예측을 중심으로 전환되고 있다”며 “AI 기반 오버레이 예측 기술이 차세대 반도체 제조 경쟁력을 좌우할 것”이라고 말했다.