전체메뉴

검색
팝업창 닫기
이메일보내기

KAIST 박사과정 이효선씨, 한국인 첫 '호프만 장학상'

이효선 KAIST EEWS 대학원 박사과정 학생




KAIST는 이효선 EEWS대학원 박사과정 학생이 ‘제63회 미국진공학회’에서 한국인으로는 처음으로 ‘호프만 장학상(Dorothy M, and Earl S.Hoffman Scholarship Award)’을 받았다고 15일 밝혔다.

지난 1954년 설립된 미국진공학회(AVS)는 화학·물리·생물학 등 다양한 분야의 전문가가 모여 나노과학·표면과학의 발전을 꾀하는 학회로 6∼11일 미국 내슈빌에서 열린 이 학회에는 세계 각국에서 4,500여명의 회원이 참석했다.



호프만 장학상은 전 미국진공학회장이던 도로시 M 호프만의 후원으로 2002년 제정된 상으로 학회에 참석한 대학원생 가운데 최고 수준의 연구결과를 보인 2명을 선정해 시상한다.

이씨는 ‘나노디바이스를 이용한 표면 촉매 반응에서의 핫전자 검출’이라는 주제의 연구로 호프만 장학상을 받았다. 미국 대학 출신이 아닌 학생이 상을 받은 것도 처음이다. /대전=박희윤기자 hypark@sedaily.com
< 저작권자 ⓒ 서울경제, 무단 전재 및 재배포 금지 >
주소 : 서울특별시 종로구 율곡로 6 트윈트리타워 B동 14~16층 대표전화 : 02) 724-8600
상호 : 서울경제신문사업자번호 : 208-81-10310대표자 : 손동영등록번호 : 서울 가 00224등록일자 : 1988.05.13
인터넷신문 등록번호 : 서울 아04065 등록일자 : 2016.04.26발행일자 : 2016.04.01발행 ·편집인 : 손동영청소년보호책임자 : 신한수
서울경제의 모든 콘텐트는 저작권법의 보호를 받는 바, 무단 전재·복사·배포 등은 법적 제재를 받을 수 있습니다.
Copyright ⓒ Sedaily, All right reserved

서울경제를 팔로우하세요!

서울경제신문

텔레그램 뉴스채널

서울경제 1q60