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기술 빼낸 대만기업 대법서 벌금형 확정

서울반도체 직원 이직 후 기술유출

양벌규정으로 에버라이트도 재판행

국내 재판권 인정 벌금 6000만 원

대법 “주요 범행 국내에서 일어져”

외국법인 양벌규정 대법 첫 판단





서울반도체(046890)의 기술을 탈취한 혐의로 기소된 대만 기업 에버라이트(LED 생산업체)가 대법원에서 벌금형을 확정받았다. 대법원은 외국 법인이라 하더라도 주요 범행이 국내에서 이루어졌다면 한국 법원이 재판권을 가진다는 첫 판단을 내렸다. 7일 법조계에 따르면 대법원 2부(주심 엄상필 대법관)는 지난달 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 재판에 넘겨진 에버라이트에 대해 상고를 기각하고 벌금 6000만원을 선고한 원심을 확정했다.사건은 서울반도체 소속이던 A씨 등 3명이 에버라이트로 이직하면서 시작됐다. 이들은 이직 과정에서 서울반도체의 LED 산업 관련 기술을 에버라이트에 유출했다. 이에 검찰은 이들을 산업기술 유출 등의 혐의로 기소했으며, 에버라이트 역시 ‘양벌규정’을 적용해 함께 재판에 넘겼다. 쟁점은 양벌규정 적용과 관련해 외국 법인에 대한 대한민국 형사재판권 권한이 인정되는지 여부였다. 대법원도 에버라이트에 벌금형을 선고한 원심의 판단을 유지했다. 대법원은 “영업비밀 열람·촬영 및 무단 유출 행위가 대한민국 내에서 이뤄졌다”며 “일부 행위가 해외에서 발생했더라도 피고인 회사가 대한민국 내에서 죄를 범한 것으로 보는 것이 타당하다”고 판시했다.

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