인하대 나노시스템 공학부 ‘표면반사 제거’ 정밀기술 개발

인하대 나노시스템 공학부 이한섭 교수팀은 나노크기(10억분의1) 무반사구조(Antireflective structure) 배열의 크기 및 형태를 정밀하게 제어해 고분자 표면에 제작, 단일성분으로 구성된 고성능의 무반사 고분자 필름을 제작하는 데 성공했다고 20일 밝혔다.

이번에 개발한 무반사 고분자 필름은 가시광선 영역(400∼800nm)에서의 평균반사율이 약 0.64%로, 지금까지 알려진 투명고분자 무반사 필름 중에서 최고의 성능이라고 연구진은 밝혔다.

연구진에 따르면 일반 필름의 평균 반사율은 8∼10%에 달한다.

연구진은 우선 다단계 양극산화공정(Multilevel anodizing)을 개발해 산화 금속표면에 다양한 크기와 모양의 나노 구멍을 만드는 것을 가능하게 했다.

이어 구멍 내.외부의 진공 압력차이를 인위적으로 조절해 구멍 내에 고분자 물질을 완벽하게 채울 수 있는 진공보조표면젖음(Vacuum-assisted surface wetting) 방법을 개발, 나노 구멍에 원하는 고분자 물질을 채우는 것도 가능하게 했다.

연구진은 이 두 가지 기법을 대표적 투명고분자인 폴리메틸메타크릴레이트(PMMAㆍ유리대용으로 사용되는 아크릴계 투명플라스틱)에 적용해 원하는 나노구조가 고밀도 배열로 표면에 정렬된 필름을 제작했다.

연구진은 이번 연구에서 표면 반사율을 획기적으로 줄인 만큼 한국의 대표 수출품인 평면 디스플레이 기기의 국제 경쟁력을 한층 높일 수 있다고 기대했다.

한편 연구진의 이 같은 결과는 세계적인 재료공학분야 국제학술지인 ‘어드밴스드 머티리얼스’ 7월12일자 온 라인 판에 게재됐다.