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사회전국
거품 이용해 쉽고 저렴한 반도체 기판 생성법 개발

김태성 UNIST 교수팀

김태성(오른쪽) UNIST 기계항공 및 원자력공학부 교수와 배주열 연구원. /사진제공=UNIST




거품을 이용한 패터닝 기법이 개발됐다. 반도체와 플랙시블 액정 등에 사용되는 기판에 필요한 미세한 패턴을 쉽고 저렴하게 새길 방법으로 기대를 모으고 있다.

울산과학기술원(UNIST)은 김태성 기계항공 및 원자력공학부 교수팀이 ‘액체 거품의 구조를 제어하는 기법’을 개발해 나노 패턴을 대면적으로 새기는 방법을 제안했다고 6일 밝혔다. 이번에 개발된 기술은 기존에 많이 사용되고 있는 전자빔 또는 포토 리소그래피(집적회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 가진 수지를 고정한 후 화학 처리나 확산 처리) 기술로는 제작하기 어려운 웨어러블 장치 개발에 유용할 전망이다.

현재 패터닝에서 가장 많이 쓰이는 전자빔 또는 포토 리소그래피 기술은 원하는 패터닝을 정확한 위치에 할 수 있지만 오래 걸리는 공정 과정과 고가의 장비 이용으로 인한 높은 단가가 문제였다. 이러한 단점을 극복하기 위해 현재 액체를 이용한 다양한 패터닝 기술이 개발되고 있지만 액체 제어 등 다양한 변수들로 인해 패터닝 기술에서 중요한 정확도를 높이는 것이 관건이었다.



김 교수팀은 자연계에서 흔히 볼 수 있는 거품의 구조에서 착안해 미세유체장치를 통해 전례에 없는 시스템을 만들었다. 기판에 필요한 물질을 섞은 액체를 미세유체장치를 통해 자연 증발시켜 규칙적으로 연결된 2차원 패턴을 손쉽게 만든 것이다. 배주열 UNIST 기계공학과 박사과정 연구원은 “개방계 거품을 구현하고 그 원리를 분석한 최초의 시도”라고 강조하며 “이 거품으로 만든 나노 필름 구조가 증발하는 과정에서 물질을 주조하는 틀이 된다”고 설명했다.

김 교수는 “전통적 리소그래피 기법과 달리 유연한 기판 위에서도 대면적으로 미세한 패턴을 그려 넣을 수 있는 장점이 있는 기술”이라며 “쉽고 저렴하게 몇 분 만에 나노입자나 유기물을 포함한 다양한 물질의 나노 패턴을 만들 수 있어 미래형 기기 제작에 유용할 것”이라고 밝혔다. /울산=장지승기자 jjs@sedaily.com
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