이번 특허는 건식식각장비 상하부 사이에 브릿지 안테나를 배치, 장비 내부 절연창 및 프레임바 등 필수 구성물과 안테나 간의 간섭을 최소화하고 연결 안테나 높이를 조절 가능하게 할 수 있다.
이는 공정공간 안에서 형성되는 플라즈마 균일도와 장비의 내구성이 향상되는 효과와 플라즈마 밀도의 정밀한 조절이 가능하며 현재 인베니아가 개발 중인 차세대 대면적 OLED 및 LCD용 건식식각장비에 적용될 예정이다.
건식식각장비는 박막트랜지스터(TFT) 기판 위에 증착된 금속 및 반도체층 등 불필요한 부분을 플라즈마를 이용해 정밀하게 깎아내는 것으로 LCD에 비해 OLED의 경우 더 높은 플라즈마 밀도와 고성능이 요구된다.
인베니아는 LG디스플레이와 중국의 디스플레이 패널 생산업체인 BOE, CSOT, HKC 등에 기판 건식식각장비를 공급하고 있으며 일본의 도쿄일렉트론(TEL)과 더불어 전세계적으로 대면적 LCD 및 OLED용 건식식각장비를 공급한 실적을 보유하고 있다.
회사 관계자는 “핵심 장치인 안테나를 자체 개발하여 식각 속도가 빠르고 균일성이 뛰어난 차세대 유도결합형플라즈마(ICP: Inductive Coupled Plasma) 방식 건식식각장비 개발에 기술 경쟁력을 확보하게 됐다”고 설명했다.
인베니아는 전세계적으로 대면적 OLED 패널 생산에 대한 투자가 증가함에 따라 차세대 장비 개발에 역량을 집중하여 건식식각장비와 OLED생산 라인설비, 진공물류 라인설비, 봉지(Incap)설비 등 대면적 OLED용 장비 시장을 선점한다는 전략이다.
한편, 인베니아는 지난 23일 DAW INTERNATIONAL LIMITED로부터 중국 정저우시에 위치한 CTO의 5세대 TFT진공합착(ODF) 장비 이설 공사를 수주했다.
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