주식회사 참그래핀이 5나노 이하 공정 반도체 EUV 장비용 그래핀 펠리클 개발에 박차를 가한다고 밝혔다.
이와 관련 참그래핀은 지난 7일 킨텍스에서 열린 나노코리아 2021에 그래핀 펠리클 시제품을 출품해 이목을 집중시킨 바 있다.
펠리클은 포토마스크 오염을 방지하는 덮개역할을 하는 부품으로 EUV 장비의 핵심 부품이다.
참그래핀이 이번 행사에 출품한 그래핀 펠리클은 고품질 CVD 그래핀을 이용하여 제작한 제품으로써 지금까지 구현된 적이 없었던 25나노 이하 두께의 그래핀으로 펠리클 사이즈를 구현하였다는 점에 주목을 받았다.
참그래핀은 CVD 그래핀을 전문적으로 제조하는 롤투롤 공정 그래핀 대량생산 기술을 보유하고 그래핀 상용화를 실현한 기업이다. 이번에 개발한 양산 기술로 그래핀 펠리클 대량생산할 수 있는 수준과 품질을 갖추는 것을 목표로 하고 있다. 참그래핀 업체 관계자는 “이번 행사에 출품한 제품은 시제품 수준이지만 그래핀 펠리클이 실제로 제작 가능하다는 가능성을 확인하였고, 그래핀 펠리클 시장 진출에 더욱 큰 기대를 갖게 되었다.” 고 전했다.
5나노 이하 초소형 반도체 제조에 사용되는 극자외선 EUV 장비는 대당 가격이 2,000억원을 호가하는 최첨단 장비이며, 장비의 핵심 부품인 포토마스크는 세정할 수 없어 오염으로부터 보호하기 위한 펠리클을 필요로한다. 따라서 5나노 이하 반도체 양산을 준비하고 있는 전세계 업체로부터 펠리클의 개발이 요구되어 왔지만 여러가지 까다로운 조건 때문에 펠리클 개발에 난항을 겪고 있었다. 이러한 시장 상황에서 참그래핀이 이번 나노코리아에 그래핀 펠리클을 출품한 것은 펠리클 시장 상용화의 가능성을 더욱 높였다는 평가이다.
전 세계적으로 반도체를 소형화 하기 위한 경쟁이 치열한 가운데, EUV 장비의 수율을 높이기 위한 핵심부품인 펠리클을 개발하고 있는 참그래핀의 행보가 주목되는 이유이다.
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