반도체 장비 기업 저스템(417840)의 자회사 플람이 에스앤에스텍(101490)과 공동으로 블랭크마스크 표면 처리 장비를 개발했다고 6일 밝혔다.
블랭크마스크는 반도체 노광 공정에 사용되는 포토마스크의 핵심 부품이다. 블랭크마스크 위에 금속막과 감광액을 도포한 후 반도체 집적회로 패턴을 빛으로 쬐면 포토마스크가 만들어진다. 수율을 높이기 위해서는 블랭크마스크 위 불순물을 제거하는 과정이 중요한데 이를 플라즈마 표면 처리 장비가 담당한다.
플람과 에스앤에스텍이 공동으로 개발한 표면 처리 장비는 저온 고밀도 플라즈마 기술력을 활용해 세정력이 우수하다는 게 회사측 설명이다. 신제품은 현재 에스앤에스텍 대구 본사에서 최종 테스트 중으로 연내 발주를 받을 예정이다. 최용남 플람 대표는 “이번에 에스앤에스텍과 공동 개발한 장비는 포토공정 분야에서 한단계 업그레이드한 기술 발전을 가져올 것”이라며 “블랭크마스크의 수요가 증가하는 만큼 시장 전망도 밝을 것으로 기대한다”고 말했다.
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