삼성전자 지난해 26.9조 시설 투자 집행...반도체에 22.6조

삼성전자 반도체 공장 내부./사진제공=삼성전자

삼성전자(005930) 재무분석차트영역상세보기는 30일 실적 공시를 통해 지난해 시설투자로 26조9,000억원을 집행했다고 밝혔다. 사업부문별로 반도체 부문 투자가 22조6,000억원, 디스플레이 부문 투자는 2조2,000억원이었다.

반도체 부문에서는 메모리반도체가 지난해 공정 전환에 집중하면서 투자 규모가 줄었고 파운드리에서는 EUV(극자외선) 7나노 등 미세 공정을 적용하기 위한 설비 증설로 투자가 늘었다.

디스플레이 부문의 경우 중소형 A4 생산라인 투자가 마무리되면서 전반적인 투자 규모가 감소했다.



삼성전자는 올해 수요 변동 상황에 맞춰 투자 규모를 탄력적으로 대응할 계획이라고 설명했다.

올해 본격 회복이 기대되는 메모리반도체에서 중장기 수요 대응을 위한 인프라 투자는 지속하고 설비투자는 시황 회복 추이에 맞춰 대응할 방침이다.

삼성전자 관계자는 “시스템반도체와 디스플레이, AI(인공지능), 5G(5세대 이동통신) 같은 미래 성장 사업의 중장기 경쟁력 강화를 위한 투자는 계획대로 진행할 예정”이라고 말했다.
/변수연기자 [e-mail]