SK하이닉스, '메모리 업계 최초' 금속 산화물 PR 도입 추진 [뒷북비즈]

SK하이닉스, 차세대 D램 구현 위해

인프리아 금속 산화물 PR 공동 연구

범용 CAR 대비 견고하고 미세한 노광 가능

램리서치와도 협력해 인프라 구축 속도

SK하이닉스 M16 전경. 사진제공=SK하이닉스

SK하이닉스가 메모리 반도체 업계에서 처음으로 D램 공정에 금속 산화물 포토레지스트(PR) 도입을 준비한다. 차세대 PR 개발로 주목받는 인프리아와 협력 연구한다.

3일 일본 JSR 자회사 인프리아는 SK하이닉스와 금속 산화물 PR을 차세대 D램 공정에 적용하기 위한 공동 연구를 시작했다고 밝혔다. 업계에 따르면 양 회사는 단순 연구 차원을 넘어 금속 산화물 PR 양산 적용까지 논의 중인 것으로 알려졌다.

인프리아는 금속 산화물 PR을 세계에서 유일하게 양산할 수 있는 업체다. 인프리아가 만드는 금속 산화물 PR은 기존 양산 공정에서 쓰여왔던 화학증폭형 PR(CAR)과 상당히 차별화돼 있다.

웨이퍼 위에 포토레지스트(PR) 도포하는 작업을 나타낸 그림. 사진제공=SK하이닉스 유튜브 갈무리

PR은 빛으로 회로 모양을 찍어내는 '노광' 공정 전 동그란 웨이퍼 위에 바르는 액체 물질이다. 빛과 PR이 반응하면서 회로를 만들어낸다.

인프리아 금속 산화물 PR의 핵심 포인트는 '금속'이다. CAR이 다양한 화학 물질이 반응하면서 회로를 형성하는 방식이라면, 인프리아의 PR은 주석(Tin) 기반의 금속 알갱이가 빛과 만나 회로를 만든다. 금속 특유의 간결함과 견고함으로 미세 회로를 더욱 반듯하고 튼튼하게 만들어낼 수 있다.

특히 초미세 회로를 만들어낼 때 쓰는 극자외선(EUV) 공정에서 각광 받고 있다. 외신에 따르면 미국 인텔도 지난해 초 재개한 칩 위탁생산(파운드리) 경쟁력 강화를 위해 인프리아 PR을 연구용으로 도입하는 등 글로벌 반도체 업계의 러브콜을 받고 있다.

그간 메모리 반도체 업체 중에서 양산 공정에 이 PR을 도입한 사례는 없었다.

SK하이닉스는 이 업계에서 선도적으로 금속 산화물 PR을 공정에 도입하기 위해 분주하게 움직이는 모습이다. 인프리아 외 다양한 협력사와 관련 연구를 활발하게 전개하면서 차세대 D램 시대 경쟁에서 우위를 점하기 위한 포석을 깔고 있다.

최근 미국 램리서치는 SK하이닉스에게 노광 이후 금속 산화물 PR을 단단하게 굳히는 '디벨롭' 공정용 기기를 공급한다고 밝힌 바 있다. 서서히 금속 산화물 PR 인프라를 완성해 나가는 모습이 주목할 만하다.

이병기 SK하이닉스 부사장은 "인프리아의 주석(Tin)-옥사이드 PR은 차세대 D램 생산을 위한 공정 개선과 비용 절감에 큰 도움이 될 것"이라고 밝혔다.

한편 SK하이닉스는 3일 현존 최고층인 238단 낸드플래시를 세계 최초로 개발해 업계에서 화제가 됐다.