앞으로 우리 기업이 중국에 특허 출원을 하거나 중국 기업이 우리나라에 특허를 출원할 때 서류 제출이 아닌 전자 방식으로 교환하면서 금전·시간적 부담이 크게 줄어들 전망이다. 한국과 중국의 특허를 관장하는 주무부처가 특허와 디자인 분야에서 협력을 강화하기로 합의한 데 따른 것이다.
19일 특허청에 따르면 성윤모 특허청장이 지난 17일 중국 항저우에서 션창위 국가지식산권국장과 회담을 갖고 특허·디자인 분야에서 협력을 강화하는 양해각서(MOU)를 체결했다. 최근 양국간 사드(THAAD·고고도미사일방어체계) 갈등 봉합 이후 중앙정부부처가 정식 MOU를 맺은 것은 이번이 처음이다.
이번 회담에서 양국은 디자인 우선권 서류의 전자적 교환을 조속히 추진한다는 내용의 합의문을 채택했다. 한국 출원인이 중국에 디자인을 출원하거나 그 반대의 경우에도 제출해야 하는 우선권 서류를 양국 특허청이 전자 방식으로 교환하게 된다. 지난해 한국인이 중국에서 출원한 디자인 건수가 총 2,135건에 이르는 만큼 서류 제출에 따른 비용과 부담이 크게 줄어들 전망이다. 양국에서 출원된 동일한 발명에 대해 한·중 심사관이 함께 심사하는 ‘특허 공동 심사(CSP) 사업’에도 협력하기로 했다. 특허청 관계자는 “중국이 최초로 CSP 사업에 참여하기 위해 우리나라와 손을 잡았다는 데 의의가 있다”면서 “현재 세계적으로 CSP 사업을 운영하고 있는 국가는 한국-미국, 미국-일본에 불과하다”고 소개했다.
양국 특허청은 중국이 추진 중인 디자인 심사역량 강화, 디자인 분류체계 개발 등에 우리나라가 적극 협조하기로 했다. 기존에 특허청은 CSP 사업과 디자인 우선권 서류 전자적 교환 등 중국이 새롭게 시도하는 대외협력 사업을 함께하기 위해 중국과 실무 협의를 지속해 왔다. 내외부적 요인으로 정체됐던 협력이 이번에 속도를 내면서 가시적인 성과로 이어질 전망이다.
성윤모 특허청장은 “중국이 세계 최대 시장이자 지재권 최다 출원 국가라는 점에 비추어 볼 때 이번 회담에서 합의된 양국 간 지재권 획득 절차 간소화 조치 등은 중국 진출 우리 국민과 기업에 적지 않은 편익을 가져다 줄 것”이라며 “지재권 국제무대에서 입지를 강화하고 있는 한국과 중국의 협력 증진은 지재권 분야의 국제 논의와 규범 형성을 선도해 나가는 데 있어 양국 모두에게 큰 보탬이 될 것”이라고 말했다.
/서민우기자 ingaghi@sedaily.com
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