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G2갈등 유탄맞은 韓반도체…SK 中공장 첨단화 좌초 위기

우시 D램라인 EUV 반입 추진에

美 "中 군사력에 악용 가능성" 제동

中 진출 韓 기업 경영전략 흔들어





중국 반도체 공장 첨단화를 위해 극자외선(EUV) 도입을 추진하던 SK하이닉스의 계획이 미중 패권 전쟁의 유탄을 맞아 좌초될 위기에 처했다. 인공지능(AI)이나 고성능컴퓨팅(HPC)을 구현하는 최첨단 반도체 기술이 하나라도 중국에 흘러 들어가게 할 수 없다는 미국 정부의 강력한 규제가 우리 기업의 경영전략마저 뒤흔드는 모습이다.

18일 로이터와 관련 업계에 따르면 SK하이닉스는 최근 중국 장쑤성 우시 D램 공장 첨단화 계획을 세우고 EUV 노광 장비를 생산 라인에 반입하려 했지만 미국 정부의 통제로 무산된 것으로 알려졌다. 5㎚(나노미터) 이하 시스템 반도체 생산 라인에서 주로 활용되는 EUV 노광 장비는 최근 D램 데이터 집적도 등을 획기적으로 향상시킬 수 있다는 평가를 받으며 메모리 반도체 분야에서도 도입되고 있다. SK하이닉스는 올해 처음으로 경기도 이천 D램 공장에 이 장비를 도입해 운용 노하우를 쌓고 있다.



미국 정부는 SK하이닉스에 “EUV 노광 장비는 중국의 군사력 증대에 악용될 수 있다”는 이유를 대며 해당 장비의 중국 반입을 막은 것으로 알려졌다. 이는 도널드 트럼프 전 미국 대통령이 국방수권법안(NDAA)을 비롯한 복수의 행정명령을 통해 전략물자와 제품의 대중(對中) 수출을 규제한 데 따른 것으로 분석된다. 특히 이 사례는 장비 사용의 주체가 중국 기업이 아니라 중국에 진출한 제3국 기업이라는 점에서 여파가 상당할 것으로 보인다. SK하이닉스 관계자는 “EUV 장비는 국내 도입도 극초기인 만큼 중국 공장 도입까지는 시간이 많이 남아 있다”며 “국제규범을 준수하면서 중국 공장을 지속 운영하는 데 문제가 없도록 할 것”이라고 설명했다.

반도체 업계는 미국 정부의 이번 결정이 중국 진출 기업에 상당한 압박으로 작용할 것으로 내다봤다. 업계 관계자는 “자칫 중국 공장의 첨단화가 늦어지면 최악의 경우 해당 공장을 포기해야 할 수도 있다”고 우려했다.
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