셀라이트, 반도체 오염 자동측정장비 개발

셀라이트, 반도체 오염 자동측정장비 개발금속이온 오염도 측정…생산수율 향상 기대

반도체 공정과정중 발생하는 화학적 오염여부를 자동으로 측정하는 장비가 처음으로 개발됐다.

셀라이트(대표 홍성균·洪性均)은 2년여의 연구끝에 반도체 제조공정에서 나타나는 화학물질의 오염정도를 자동으로 측정해 주는 케미컬오염자동측정장비(모델명「TIMS-2000」·사진)을 최근 국내업계로는 최초로 개발했다.

메모리와 비메모리반도체 모두에 적용될 수 있는 이장비는 반도체 핵심제조과정중 오염물질을 세정하는 (WET)공정에서 금속이온오염의 정도를 측정해주는 역할을 한다.

공정이란 반도체를 세정할 때 각종 과산화수소나 초순수(超純水)를 이용해 웨이퍼의 표면을 세척하는 것으로 오염자동측정장비는 이세척과정 중간에 사용되는 제품이다. 이장비를 사용하면 금속오염물질을 20PPT까지 찾아내 데이터로 알려주기 때문에 반도체의 생산수율을 극대화할 수 있다는 장점이 있다.

지금까지 반도체 웨이퍼공정에서 금속이온에 의한 오염으로 문제가 발생하면 이미 회복할 수 없는 단계까지 공정이 진행되어 그동안 생산된 웨이퍼를 모두 버리는 등 막대한 손해를 감수해야 했다.

하지만 TIMS-2000은 오염여부를 공정중에 실시간으로 자동 측정, 분석하여 오염물질을 발생하는 즉시 공급라인이나 공정진행을 중단시켜 생산손실을 사전에 원천 봉쇄시킬 수 있다.

또 현재 실시되고 있는 메모리 및 비메모리 반도체등 모든 웨이퍼공정에 사용할 수 있으며 특히 2002년부터 상용화될 예정인 300MM웨이퍼공정에도 장비교체나 수리없이 적용할 수 있다.

회사측은 국내 반도체업체를 대상으로 성능 테스트를 마치고 모대기업에 2대 납품한 상태며 내달 2대를 추가공급할 예정이다. 또 일본 반도체장비업체에 공급도 추진중이다.

셀라이트는 지난 2월 반도체의 모서리부분의 이상여부를 검사할 수 있는 웨이퍼에지 검사장비를 개발한 반도체검사장비 전문업체로 이오염측정장비에 대해서는 국내는 물론, 미국과 유럽, 대만등에 특허를 출원중이다.

회사측은 연내 이장비만으로 70억원의 매출을 올리고 2002년부터는 연간 200억원이상의 매출을 올릴 것으로 기대하고 있다. [phone]

송영규기자[e-mail]

입력시간 2000/06/30 19:05

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