6일 특허청에 따르면 역내 특허분야 협력강화를 위해 이달 7일부터 9일까지 일본 오다와라에서 한·일, 한·중, 한·중·일 특허청장 회담이 열린다.
한국에서는 최동규 특허청장, 중국에서는 션창위 국가지식산권국장(차관급), 일본에서는 고미야 요시노리 특허청장이 참여한다.
먼저 12월 7일에는 ‘한·일 특허청장회담’이 열린다. 회담에서 공동 선행 기술조사를 위한 심사관 교류 협력 강화, 특허 데이터의 교환을 논의한다. 또 ‘지리적 표시와 지역 단체표장 목록의 교환 대상 확대’에 관한 협력각서를 체결할 예정이다. 교환된 목록은 양국의 지리적 표시 보호를 위한 참고자료로 상호 활용된다.
12월 8일 오전에는 ‘한·중 특허청장회담’이 열린다. 이번 회담에서는 한국과 중국 간 특허공동심사(CSP) 추진에 관한 합의가 이루어질 예정이다.
특허공동심사(CSP)는 양국에 제출된 동일한 특허출원에 대해 양국 특허청이 다른 출원보다 더 빨리 심사해주는 제도이다.
12월 8일 오후에는 ‘한·중·일 특허청장회담’이 개최된다. 3국 특허청장은 특허, 디자인, 정보화 등 각 분야의 협력성과를 승인하고 내년도 협력 방향에 대해 논의할 예정이다. 3국 협력의 효율성 제고를 위해 기존의 협력체계를 정비하는 방안에 대해서도 협의할 계획이다.
12월 9일에는 ‘지재권의 행정·사법적 보호’를 주제로 사용자 심포지엄이 개최된다. 3국의 판사와 심판관 등이 패널로 참여해 역내 지재권 보호에 관한 최신 동향 등을 발표할 예정이다.
최동규 특허청장은 “전 세계 특허출원의 57%가 한·중·일 3국에서 출원되고 있다”며 “국제공조를 통해 우리 기업이 해외에서 더욱 편리하게 지재권을 획득하고, 획득된 지재권은 강하게 보호받을 수 있도록 역내 협력을 강화해 나갈 계획”이라고 강조했다.
/한동훈기자 hooni@sedaily.com
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