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삼성전자, 국제 오디오 공학회서 기술력 입증

논문 상위 10개 목록에 3개 포함

미국 새너제이에 위치한 삼성 리서치 아메리카 오디오랩에서 연구원이 음질을 테스트하고 있다. /사진제공=삼성전자




삼성전자(005930)는 최근 ‘국제 오디오 공학회(AES) 2019’에서 선정한 논문 상위 10개 목록에 3개를 올리며 오디오 기술력을 입증했다고 6일 밝혔다.

이번에 톱10에 선정된 논문은 삼성 리서치 아메리카(SRA) 소속 오디오랩에서 제출했으며, △음향 성능 최적화를 위한 스피커 포트 디자인 △소리 왜곡을 보정하는 비선형 제어 기술 △근거리 반응 기술을 이용한 헤드폰 음향 개인 최적화 기술 등 총 3개다.

음향 성능 최적화를 위한 스피커 포트 디자인은 일반적으로 스피커는 밀폐형(Sealed)과 구멍이 나있는 포트형(Ported)으로 분류되는데 포트형 스피커는 밀폐형 대비 깊은 저음을 내는데 용이하지만 공기가 통하는 구조라 잡음이 생기기 쉽다. SRA는 이같은 노이즈를 최소화해 스피커 성능을 최적화하는 기술을 선보였다.



소리 왜곡을 보정하는 비선형 제어 기술은 소리의 왜곡을 제어해 원하는 소리를 정확하게 내주는 알고리즘 기술이다. 소리는 스피커에 들어오는 전극의 힘에 따라 불규칙한 왜곡이 발생하기 마련인데 소리가 스피커에 도달하기 전에 전극을 보정해 의도한 소리를 정확하게 내준다. 마지막으로 근거리 반응 기술을 이용한 헤드폰 음향 개인 최적화 기술은 사람마다 소리가 전달되는 귀의 구조, 고막 모양, 반사 정도가 다르기 때문에 이를 미리 측정해 소리를 일정하게 최적화시켜주는 헤드폰 관련 기술이다.

삼성 리서치 아메리카에서 오디오랩을 맡고 있는 앨런 드밴티어 상무는 “국제 오디오 공학회를 통해 삼성전자의 오디오 기술력을 인정받아 기쁘다”며 “지속적인 혁신 기술 개발과 사업부와의 협력을 통해 사용자들의 오디오 경험을 풍부하게 만드는 데 기여하겠다”고 말했다.

/고병기기자 staytomorrow@sedaily.com
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