라셈텍, 고순도 질소 온도조절 반도체 장비 개발

국내 최대 반도체 제조용 칠러(정밀자동온도조절장비) 업체인 라셈텍(대표 윤배원)이 ?.01℃ 편차 내에서 고순도 질소(N₂) 가스의 온도를 제어할 수 있는 초정밀 칠러 항온 기술을 이용한 장비 를 국내 최초로 개발했다.

이 장비는 세정 및 클린룸 등 반도체 공정에 많이 사용되는 고순도 질소가스를 외부 환경에 영향을 받지않고 ?.01℃ 편차로 유지할 수 있다는 것이 가장 큰 특징으로 기존 제품에 비해 10배 가량의 개선 효과를 지녔다고 회사측은 밝혔다.

라셈텍은 또 초정밀 온도조절이 가능하기 때문에 미세한 온도변화에 더욱 민감한 0.1 미크론 공정에서 요구하는 항온을 유지시켜 줄 수 있으며, 일반 반도체 공정 뿐만 아니라 이보다 높은 수준의 정교함이 요구되는 포토마스크(회로사진 원판) 공정에도 이 장비를 사용할 수 있다고 강조했다.

라셈텍은 이번 장비가 질소가스 제어에 국한된 것이 아니라 국내 초정밀 가스온도 제어 칠러 시장 등에 큰 영향을 줄 것으로 예상하고 있다.

<남문현기자 [e-mail]>